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晶圓烘箱用于晶圓、半導(dǎo)體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃等材料涂膠前的預(yù)處理烘烤、涂膠后堅(jiān)膜烘烤和顯影后的高溫烘烤；也適用于電子液晶顯示、LCD、實(shí)驗(yàn)室等生產(chǎn)及科研部門；也可用于非揮發(fā)性及非易燃易爆物品的干燥、熱處理、老化等其他高溫試驗(yàn)。工作原理主要基于熱對(duì)流方式。在烘箱內(nèi)部，通過電熱器等產(chǎn)生熱風(fēng)，使熱風(fēng)循環(huán)流動(dòng)，從而對(duì)待烘干的半導(dǎo)體材料進(jìn)行均勻地加熱和干燥。這種加熱方式特別適合處理較厚的半導(dǎo)體材料，并能達(dá)到較好的烘干效果。晶圓烘箱通常具有多種特性，例如密封性能好、置物架設(shè)計(jì)...

兩廂式冷熱沖擊試驗(yàn)箱用于電子電器零組件、自動(dòng)化零部件、通訊組件、汽車配件、金屬、塑膠等行業(yè)，國(guó)防工業(yè)、航天、兵工業(yè)、電子芯片IC、半導(dǎo)體陶瓷及高分子材料之物理性快速溫度變化,測(cè)試其材料對(duì)高、低溫的反復(fù)抵拉力及產(chǎn)品于熱脹冷縮產(chǎn)出的化學(xué)變化或物理傷害，可確認(rèn)產(chǎn)品的品質(zhì),從精密的IC到重機(jī)械的組件，無一不需要它的理想測(cè)試工具。兩廂式冷熱沖擊試驗(yàn)箱由高溫箱、低溫箱、傳動(dòng)系統(tǒng)、制冷系統(tǒng)、加熱系統(tǒng)及電氣控制系統(tǒng)構(gòu)成。高溫箱與低溫箱縱向布置，樣品通過吊籃在高低溫箱間快速移動(dòng)，實(shí)現(xiàn)冷熱沖擊。...

溫濕度試驗(yàn)機(jī)為了實(shí)現(xiàn)試驗(yàn)條件，不可避免地要對(duì)試驗(yàn)箱進(jìn)行加濕和除濕的操作，這里就目前在溫濕度試驗(yàn)箱中運(yùn)用較多的各種方法進(jìn)行分析，指出它們各自的優(yōu)缺點(diǎn)和建議使用的條件。濕度表示的方法很多，就試驗(yàn)設(shè)備而言，通常用相對(duì)濕度這一概念描述濕度。相對(duì)濕度的定義是指空氣中水汽分壓力與該溫度下水的飽和汽壓之比并用百分?jǐn)?shù)表示。由水汽飽和壓力性質(zhì)可知，水汽的飽和壓力只是溫度的函數(shù)，與水汽可處的空氣壓力無關(guān)，人們通過大量的實(shí)驗(yàn)和整理尋求到了表示水汽飽和壓力與溫度之間的關(guān)系，其中已被工程和計(jì)量大量采用...

在以下應(yīng)用場(chǎng)景中，需要用到烘箱的干燥或者加熱功能：1)在制藥工業(yè)、食品行業(yè)（如紅毛丹干燥）和農(nóng)業(yè)技術(shù)、環(huán)境檢測(cè)和林業(yè)中，用于測(cè)定干含量和濕度測(cè)定。對(duì)于奶粉中水分含量測(cè)定來說烘箱法很常用；2)電子產(chǎn)品組件的干燥、環(huán)氧樹脂脫氣及相應(yīng)產(chǎn)品的老化測(cè)試；3)檢測(cè)樣品的制備；4)化學(xué)研究，如最佳酸水解時(shí)間的確定；5)塑料或金屬材料的老化及回火；6)食品工業(yè)領(lǐng)域的穩(wěn)定性測(cè)試；7)建筑材料、塑料構(gòu)件的高溫?zé)岽鎯?chǔ)；8)醫(yī)院及診所中手術(shù)包布、保溫毯、沖洗液、輸液等的加熱與恒溫；烘箱的應(yīng)用不限于上...

1.加熱系統(tǒng)加熱方式：熱板接觸式：直接傳導(dǎo)加熱（適用于單片晶圓，溫度均勻性高）。熱風(fēng)循環(huán)式：對(duì)流加熱（適合批量處理，需優(yōu)化氣流分布）。紅外輻射式：非接觸加熱（減少機(jī)械應(yīng)力，用于柔性基板）。控溫元件：PID算法+鉑電阻（RTD）或熱電偶（T/C），閉環(huán)控制精度±0.1℃。2.送風(fēng)系統(tǒng)層流設(shè)計(jì)：垂直單向流（Downflow）確保潔凈度，風(fēng)速0.3~0.5m/s。風(fēng)量調(diào)節(jié)：變頻風(fēng)機(jī)按工藝階段調(diào)整風(fēng)量（如升溫階段高風(fēng)量，保溫階段低風(fēng)量）。3.腔體與載具材質(zhì)：不銹鋼316...

無塵室氮?dú)夤瘢ㄒ卜Q為氮?dú)獗Ｗo(hù)柜或氮?dú)庀洌┦且环N用于實(shí)驗(yàn)室、生產(chǎn)車間等環(huán)境中的設(shè)備，主要用于提供氮?dú)猸h(huán)境，以確保材料、產(chǎn)品或?qū)嶒?yàn)樣品在無塵、低氧的條件下存儲(chǔ)、加工或測(cè)試。特別是在半導(dǎo)體、電子、藥品、化學(xué)試劑等領(lǐng)域，氮?dú)夤竦氖褂脴O為廣泛。無塵室氮?dú)夤竦木唧w操作過程：1.氮?dú)夤?yīng)系統(tǒng)：通過外部氮?dú)庠矗ㄈ缫旱蕖⒌獨(dú)馄炕虻獨(dú)獍l(fā)生器）提供所需的氮?dú)狻５獨(dú)馔ㄟ^管道進(jìn)入氮?dú)夤瘢⑼ㄟ^控制閥調(diào)節(jié)氣體流量。2.內(nèi)部氣體替換：氮?dú)膺M(jìn)入柜體后，通過多次循環(huán)和換氣，逐漸降低柜內(nèi)的氧氣濃度，直至達(dá)到設(shè)...

1.溫度控制溫度范圍：室溫~250℃（根據(jù)光刻膠類型調(diào)整，如I線膠通常90~120℃，EUV膠需200℃以上）。均勻性：±0.5℃以內(nèi)（晶圓級(jí)烘箱需±0.1℃），避免膠膜厚度不均或顯影缺陷。升溫速率：1~5℃/秒（快速熱退火RTP型烘箱可達(dá)10℃/秒）。2.潔凈度Class10~100級(jí)（ISO4~5級(jí)），需配置HEPA/ULPA過濾器（過濾效率≥99.995%）。無塵設(shè)計(jì)：內(nèi)腔為不銹鋼或陶瓷涂層，避免顆粒污染膠面。3.氣氛控制惰性氣體保護(hù)（N?、...

光刻膠烘箱是半導(dǎo)體制造、光電子器件加工中的關(guān)鍵設(shè)備，愛義信工業(yè)科技用于光刻膠（Photoresist）的前烘（Pre-Bake）和后烘（Post-Bake）工藝，其核心功能是控制膠膜的溶劑揮發(fā)、應(yīng)力釋放及化學(xué)鍵合，直接影響光刻圖形的分辨率和良率。一、光刻膠烘箱的核心技術(shù)要求1.溫度控制溫度范圍：室溫~250℃（根據(jù)光刻膠類型調(diào)整，如I線膠通常90~120℃，EUV膠需200℃以上）。均勻性：±0.5℃以內(nèi)（晶圓級(jí)烘箱需±0.1℃），避免膠膜厚度不均...

流水線烘箱是一種常用于工業(yè)生產(chǎn)過程中的設(shè)備，廣泛應(yīng)用于電子、食品、化工、醫(yī)藥等行業(yè)。主要用于對(duì)產(chǎn)品進(jìn)行加熱、干燥、固化等處理過程，以滿足生產(chǎn)工藝對(duì)溫度、時(shí)間和環(huán)境的特殊要求。工作原理相對(duì)簡(jiǎn)單，它通過加熱元件（如電熱管、燃?xì)鉄斓龋崮軅鬟f給烘箱內(nèi)部的空氣，形成恒溫的熱流環(huán)境。空氣通過風(fēng)機(jī)在烘箱內(nèi)部流動(dòng)，將熱量均勻地分布在烘箱的各個(gè)部位，確保產(chǎn)品表面和內(nèi)部的溫度都能均衡升高，從而實(shí)現(xiàn)加熱或干燥的目的。流水線烘箱的應(yīng)用領(lǐng)域：1.電子行業(yè)：在電子產(chǎn)品的生產(chǎn)中，用于元器件的烘烤、干...

無塵室氮?dú)夤袷且环N用于存儲(chǔ)和管理敏感電子元件、半導(dǎo)體晶圓、精密儀器等物品的設(shè)備，能夠提供一個(gè)無塵且低濕度的環(huán)境，以防止物品受到污染或氧化。這種設(shè)備通常使用純凈的氮?dú)鈦碇脫Q柜內(nèi)的空氣中的氧氣和水分，從而保持內(nèi)部的環(huán)境穩(wěn)定。工作原理基于氮?dú)獾奶匦裕床换钴S、不易與其他物質(zhì)反應(yīng)。通過向柜內(nèi)充入高純度的氮?dú)猓梢燥@著降低柜內(nèi)的氧氣和水分含量，從而防止氧化和濕氣對(duì)敏感物品的影響。同時(shí)，無塵室內(nèi)的環(huán)境控制確保了柜外的污染物不會(huì)進(jìn)入柜內(nèi)，保護(hù)了內(nèi)部的物品。無塵室氮?dú)夤竦闹饕M成部分：1.密...

我們這里所說的烤箱是指工業(yè)烤箱，與做烘焙的烤箱有天壤之別。工業(yè)烤箱中，可以分真空和非真空，充氮和不充氮。它們雖然相似，但是也有實(shí)際的區(qū)別。1.普通烤箱：普通烤箱只能提供烘烤功能，高溫烘烤溫度可以達(dá)到很高。2.真空干燥箱、真空烘箱：這兩者都是真空箱范疇，共同點(diǎn)都是利用抽真空造成負(fù)壓進(jìn)行工件處理（干燥、烘烤、加熱、固化、老化等），所不同的是真空烘箱溫度較高（有時(shí)需要幾百攝氏度），往往是用于真空熱處理工藝的。3.鋰電池充氮真空烤箱：在愛義信真空烘箱的基礎(chǔ)上，充入氮?dú)狻３涞彩且环N熱...

全自動(dòng)氮?dú)夤袷且环N通過氮?dú)舛栊原h(huán)境實(shí)現(xiàn)防氧化、防潮、延長(zhǎng)儲(chǔ)存周期的設(shè)備，廣泛應(yīng)用于食品、半導(dǎo)體、實(shí)驗(yàn)室及軍工等領(lǐng)域。全自動(dòng)氮?dú)夤竦倪x購(gòu)要點(diǎn)：1、氮?dú)饧兌扰c濃度控制純度要求：氮?dú)饧兌刃琛?9.99%，避免氧氣、水分等雜質(zhì)對(duì)樣品造成污染。濃度控制精度：優(yōu)先選擇氧濃度≤1%且可調(diào)范圍廣（如0.1%-5%）的設(shè)備，適配高敏感樣品的存儲(chǔ)需求。濃度監(jiān)測(cè)技術(shù)：采用高精度電化學(xué)/氧化鋯傳感器，響應(yīng)時(shí)間≤3秒，誤差≤±0.1%，確保數(shù)據(jù)實(shí)時(shí)準(zhǔn)確。2、節(jié)能與氮?dú)饫寐实獨(dú)庀牧浚簩?duì)...